特許
J-GLOBAL ID：200903025989038409
崩壊性記録シートおよびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-027876
公開番号（公開出願番号）：特開平11-208107
出願日： 1998年01月27日
公開日（公表日）： 1999年08月03日
要約：
【要約】【課題】水溶性インク受容層(記録層)と生分解性の基材とからなり、全体として崩壊性で直線光線透過率の高い記録材、特にOHP用記録材およびその製造方法を提供すること。【解決手段】ポリ乳酸系重合体からなる基材上に、下記式(1)または式(2)で表される繰り返し単位から構成される親水性高分子化合物を主成分とする記録層を備え、直線光線透過率が70%以上であることを特徴とする崩壊性記録シート。 -[AY]- (1) -[AYAR]- (2)上記式(1)および式(2)中、Aは、下記式(3)【化1】(上記式(3)中、Xは、水素原子または炭素数1以上の炭化水素基である。また、x、yおよびzは、0または1以上の正数であり、Xが炭素数1以上の炭化水素基である場合は、次の両式:44(x+z)/(炭素数3以上のα-オレフィンオキシドの分子量)y=80/20〜94/6を満足する。)で表されるポリアルキレンオキシド残基であり、Yは、活性水素を2個有する有機化合物残基であり、Rは、ジカルボン酸類化合物残基またはジイソシアネート系化合物残基である。
請求項（抜粋）：
ポリ乳酸系重合体からなる基材上に、下記式(1)または式(2)で表される繰り返し単位から構成される親水性高分子化合物を主成分とする記録層を備え、直線光線透過率が70%以上であることを特徴とする崩壊性記録シート。 -[AY]- (1) -[AYAR]- (2)上記式(1)および式(2)中、Aは、下記式(3)【化1】(上記式(3)中、Xは、水素原子または炭素数1以上の炭化水素基である。また、x、yおよびzは、0または1以上の正数であり、Xが炭素数1以上の炭化水素基である場合は、次の式:44(x+z)/(炭素数3以上のα-オレフィンオキシドの分子量)y=80/20〜94/6を満足する。)で表されるポリアルキレンオキシド残基であり、Yは、活性水素を2個有する有機化合物残基であり、Rは、ジカルボン酸類化合物残基またはジイソシアネート系化合物残基である。
IPC (8件)：
B41M 5/00
, B29C 47/06
, B29C 55/12
, B32B 27/36
, B32B 27/40
, B29K 67:00
, B29K 75:00
, B29L 7:00
B41M 5/00 B
, B29C 47/06
, B29C 55/12
, B32B 27/36
, B32B 27/40
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (21件)
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