特許
J-GLOBAL ID：200903025994977499

基板端縁洗浄装置

発明者：
木▲崎▼ 幸治

木▲崎▼ 幸治 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-112033
公開番号（公開出願番号）：特開平7-297120
出願日： 1994年04月26日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【目的】 角型基板の端縁に液滴が残ることなく角型基板端縁の不要薄膜を溶解除去できる基板端縁洗浄装置を提供する。【構成】 基板Wの水平面内で進退移動可能に構成され、基板Wの端縁に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤吐出機構と、溶剤吐出機構の溶剤吐出ノズル47に溶剤を供給するための加圧容器60と、基板Wの端縁洗浄時の溶剤と溶解物を排出するための溶剤吸引機構70とを備えている。溶剤吐出ノズル47から溶剤が吐出されるとともに溶剤の吸引排出が行われた後、溶剤吐出ノズル47が一旦退避されて基板Wに対する吸引作用が解除され、再び溶剤吐出ノズル47が作用位置に移動されて吸引作用が行われることにより、角型基板Wの端縁に液滴が残ることなく角型基板端縁の不要薄膜が溶解除去される。
請求項（抜粋）：
薄膜が形成された角型基板の端縁に溶剤を吐出して前記基板端縁の不要薄膜を溶解除去する基板端縁洗浄装置において、前記基板の端縁に向けて溶剤を吐出する溶剤吐出手段と、前記溶剤吐出手段によって溶解された溶解物を溶剤とともに吸引する吸引手段と、前記溶剤吐出手段と前記吸引手段とを作動させて、溶剤吐出と吸引の同時進行による端縁洗浄を行わせた後、前記溶剤吐出手段を停止させ、さらに前記吸引手段の前記基板の端縁位置における吸引作用を解除させた後、再び、前記吸引手段に前記基板の端縁位置における吸引作用を行わせる制御手段と、を備えたこと特徴とする基板端縁洗浄装置。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  G02B 5/20 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/68
引用特許：
出願人引用 (4件)
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