特許
J-GLOBAL ID:200903026115557453
既設構造物表面への窒素酸化物除去皮膜形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-361919
公開番号(公開出願番号):特開2000-167771
出願日: 1998年12月03日
公開日(公表日): 2000年06月20日
要約:
【要約】【課題】 既設構造物表面に安価に窒素酸化物除去皮膜を形成すること。【解決手段】 前処理としてショットブラスト法により既設構造物表面の汚れを除去すると共に、強固な皮膜を得るために既設構造物表面を粗らし、粒子径0.005〜0.1mmにアナターゼ型チタニアを造粒した粒子を溶射原料として、ガスフレーム法により溶射して、既設構造物表面にアナターゼ型を多く残した組成のチタニア皮膜を形成する。
請求項(抜粋):
構造物の前処理工程と、光触媒作用を有する溶射粉末を0.005mm以上、0.1mm以下に造粒する造粒工程と、溶射工程と、からなる既設構造物表面への窒素酸化物除去皮膜形成方法。
IPC (2件):
FI (2件):
B24C 1/00 Z
, E04B 1/62 Z
Fターム (9件):
2E001DH12
, 2E001DH23
, 2E001EA01
, 2E001EA03
, 2E001FA30
, 2E001HB08
, 2E001HD11
, 2E001KA01
, 2E001LA05
引用特許: