加熱装置及び加熱方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：千葉剛宏 , 宮寺利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-213045
公開番号（公開出願番号）：特開2006-346743
出願日： 2005年07月22日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：

【課題】被処理物を所定の温度に迅速且つ確実に加熱するとともに、装置全体をコンパクトに構成することを可能にする。【解決手段】加熱装置45は、搬送機構74による搬送方向に沿って配設される第1〜第5加熱炉82〜90を備える。第1加熱炉82は、ガラス基板24を処理時に必要な目標温度以上に加熱可能な第1ヒータ98aを設ける一方、第2加熱炉84は、前記ガラス基板24を前記目標温度以下にのみ加熱可能な第2ヒータ98bを設け、前記第2加熱炉84は、前記第1加熱炉82よりも熱量が小さく設定されている。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

被処理物を搬送するための搬送機構を有する加熱装置であって、前記搬送機構による搬送方向に沿って配設される少なくとも第1及び第2加熱炉を備え、搬送方向上流側に配設される前記第1加熱炉は、前記被処理物を処理時に必要な目標温度以上に加熱可能な第1熱源を設ける一方、搬送方向下流側に配設され、前記第1加熱炉よりも熱量の小さな前記第2加熱炉は、前記被処理物を前記目標温度以下にのみ加熱可能な第2熱源を設けることを特徴とする加熱装置。

IPC (5件)：

B23K 1/008 , B23K 31/02 , F27B 9/14 , F27B 9/36 , F27B 9/40

FI (5件)：

B23K1/008 C , B23K31/02 310F , F27B9/14 , F27B9/36 , F27B9/40

Fターム (8件)：

4K050AA01 , 4K050BA07 , 4K050CA13 , 4K050CF06 , 4K050CF16 , 4K050CG04 , 4K050EA02 , 4K050EA05

引用特許：

出願人引用 (1件)

連続熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-034238 出願人：株式会社デンコー

審査官引用 (2件)

特開平4-358615
リフロー炉
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-002376 出願人：ソニー株式会社

前のページに戻る