特許
J-GLOBAL ID：200903026139215987
リソグラフィックィックマスクパターンのための近接修正部位の生成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 康徳 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-533324
公開番号（公開出願番号）：特表平11-509006
出願日： 1996年04月17日
公開日（公表日）： 1999年08月03日
要約：
【要約】全マスクパターンに対して修正部位を合成する方法であって、まず最初に、マスクパターンデータをデータタイルに分割する。各タイルはオリジナルマスクパターンの重なり合う区分を表現する。データタイルを、それぞれ修正部位合成工程を通して連続的に処理し、各工程では異なる形式の修正部位を合成する。修正部位のすべてを所与のタイルに合成してから、次のタイルに対して修正部位を合成する。各修正部位合成工程は、そのタイル内に記憶されるデータを、所与の工程に対して修正部位を合成するのに必要な情報を与える表現にフォーマットする。エッジバーとセリフ修正部位合成工程を実行する方法も記載する。外部形式のエッジバーを合成する方法を、タイル内の拡張部位データによって外部エッジバーの所望の間隔に等しい量だけ実施して、拡張データをエッジ表現にフォーマットし、拡張データのエッジ表現での各エッジを所定幅のエッジバーに拡大する。タイルに対する内部形式のエッジバーは、部位データをまず反転してから、外部エッジバーを生成するのと同じ工程を行うことによって合成される。セリフ合成の方法は、タイルデータをまず頂点表現にフォーマットし、セリフを必要としない若干の頂点を除き、各凸状の角に対する正のセリフと各凹状の角に対する負の頂点とを合成し、どの許容されないセリフをも除くことによって行われる。内部バーと負のセリフは、幾何的ブール演算を実施することによるオリジナルタイルデータの“切り抜き”であり、外部バーと正のセリフには、幾何的OR演算の実行と等価である“切り抜き”タイルデータとの連結が実施される。
請求項（抜粋）：
リソグラフィックパターン生成システムにおいて、複数の部位の各々に対して少なくとも1つの形式の修正部位を合成する方法であって、 前記複数の部位を有するマスクパターンをパターンデータによって表現して、前記複数の部位の各々を前記パターンデータで列挙し、 前記パターンデータを、各データセットが前記マスクパターンの重なり合う区分に対応するデータを含む複数のデータセットへ分割する工程と、 少なくとも1つの修正部位の合成工程を通して前記各データセットを処理する工程とを有し、 各合成工程が前記少なくとも1つの形式の修正部位に対応し、前記各合成工程では、前記各データセットを、前記合成工程に対応する1つの形式の修正部位を合成するのに必要な情報を与えるデータ表現にフォーマットし、前記複数のデータセットの次のデータセットが前記少なくとも1つの合成工程を通して処理される前に、前記複数のデータセットの1つを前記少なくとも1つの合成工程を通して処理することを特徴とする方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 W
