特許
J-GLOBAL ID：200903026142648983

マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、転写マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法、並びにマスクブランクス用ガラス基板、マスクブランクス、転写マスク

発明者：
小池 今朝広

小池 今朝広 について

, 
宮垣 淳二

宮垣 淳二 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (3件)： 阿仁屋 節雄 ,  油井 透 ,  清野 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-294619
公開番号（公開出願番号）：特開2004-098278
出願日： 2003年08月18日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：
【課題】 基板表面に微小な凸状の表面欠陥のないマスクブランクス用ガラス基板及びその製造方法、並びに該基板を用いたマスクブランクス、及びその製造方法、並びに、転写マスク及びその製造方法、及び半導体装置の製造方法を得ること可能にする。【解決手段】 ガラス基板に必要な加工処理を施し、表面を粗研磨した後に仕上研磨を行う方法において、その仕上研磨工程の中に、有機ケイ素化合物を加水分解することで生成したコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液(スラリー)を用いて研磨する超精密研磨工程を設ける。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
マスクブランクス用ガラス基板表面を、研磨砥粒を含む研磨液を用いて研磨する研磨工程を有するマスクブランクス用ガラス基板の製造方法において、 前記研磨砥粒は、有機ケイ素化合物を加水分解することで生成したコロイダルシリカ砥粒を含むことを特徴とするマスクブランクス用ガラス基板の製造方法。
IPC (4件)：
B24B37/00 ,  B24B37/04 ,  G03F1/14 ,  H01L21/027
FI (5件)：
B24B37/00 H ,  B24B37/00 B ,  B24B37/04 Z ,  G03F1/14 A ,  H01L21/30 502P
Fターム (7件)：
2H095BC26 ,  3C058AA07 ,  3C058AA12 ,  3C058CA01 ,  3C058CA06 ,  3C058CB01 ,  3C058DA02
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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