フォトマスク用石英基板の洗浄方法及び洗浄装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：好宮幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-321627
公開番号（公開出願番号）：特開2002-131889
出願日： 2000年10月20日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
要約：

【要約】【課題】フォトマスク製造工程における石英基板の洗浄において、基板表面に付着した異物粒子等の汚れを容易に除去することができ、安全且つ安価な洗浄技術を提供する。【解決手段】フォトマスク用石英基板を洗浄液により洗浄する方法において、前記洗浄液として低濃度フッ酸を用いることを特徴とするフォトマスク用石英基板の洗浄方法。好ましくは、前記低濃度フッ酸の濃度が、0.005%〜5%の範囲内にあり、洗浄時間を10秒〜180秒の範囲内とする。具体的には、低濃度フッ酸にフォトマスク用石英基板を浸漬させるか、石英基板に噴射機から低濃度フッ酸を噴射させる。また、スクラブ洗浄を予め行った後、上記低濃度フッ酸を用いた洗浄を行うことで洗浄効果を一層高めることもできる。

請求項（抜粋）：

フォトマスク用石英基板を洗浄液により洗浄する方法において、前記洗浄液として低濃度フッ酸を用いることを特徴とするフォトマスク用石英基板の洗浄方法。

IPC (5件)：

G03F 1/08 , B08B 1/04 , B08B 3/02 , B08B 3/08 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 X , B08B 1/04 , B08B 3/02 A , B08B 3/08 Z , H01L 21/30 502 P

Fターム (20件)：

2H095BB20 , 2H095BB30 , 3B116AA02 , 3B116BA02 , 3B116BA13 , 3B116BB21 , 3B116CC01 , 3B116CC03 , 3B116CC05 , 3B201AA02 , 3B201BA02 , 3B201BA13 , 3B201BB21 , 3B201BB93 , 3B201BB96 , 3B201CB15 , 3B201CC01 , 3B201CC11 , 3B201CC13 , 3B201CC21

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭60-050536
基板処理装置および基板処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-280886 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開昭60-050536

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