特許
J-GLOBAL ID：200903026172619961

電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器

発明者：
牧野 直樹

牧野 直樹 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-002967
公開番号（公開出願番号）：特開2005-195944
出願日： 2004年01月08日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：
【課題】 背景色の均一化を図るためのダミーパターンを介しての静電気破壊の発生が少ない電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。【解決手段】 シール材を介して対向配置される第1の基板及び第2の基板と、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含む電気光学装置において、 第1の基板は、表示領域及び非表示領域にまたがる第1の配線パターンを備え、 第2の基板は、第2の配線パターンと、前記第1の配線パターンの形状に対応して前記非表示領域に形成され、前記第2の配線パターンと離間しているダミーパターンと、を備えるとともに、 当該ダミーパターンを分割する間隙を、少なくとも一つ以上備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
シール材を介して対向配置される第1の基板及び第2の基板と、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含む電気光学装置において、 前記第1の基板は、表示領域及び非表示領域にまたがる第1の配線パターンを備え、 前記第2の基板は、第2の配線パターンと、前記第1の配線パターンの形状に対応して前記非表示領域に形成され、前記第2の配線パターンと離間しているダミーパターンと、を備えるとともに、 当該ダミーパターンを分割する間隙を、少なくとも一つ以上備えることを特徴とする電気光学装置。
IPC (6件)：
G09F9/30 ,  G02F1/1339 ,  G02F1/1345 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 ,  H05B33/26
FI (7件)：
G09F9/30 330Z ,  G02F1/1339 505 ,  G02F1/1345 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/14 Z ,  H05B33/26 Z
Fターム (40件)：
2H089LA41 ,  2H089NA24 ,  2H089QA10 ,  2H089QA14 ,  2H089TA03 ,  2H089TA12 ,  2H089TA14 ,  2H092GA14 ,  2H092GA60 ,  2H092GA64 ,  2H092HA19 ,  2H092JA03 ,  2H092JB79 ,  2H092NA01 ,  2H092NA14 ,  2H092NA16 ,  2H092NA29 ,  2H092PA04 ,  2H092PA08 ,  3K007AB05 ,  3K007AB11 ,  3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  5C094AA03 ,  5C094AA31 ,  5C094BA21 ,  5C094BA27 ,  5C094BA43 ,  5C094BA75 ,  5C094CA19 ,  5C094DB02 ,  5C094EA01 ,  5C094HA02 ,  5C094HA05 ,  5C094HA06 ,  5C094HA08
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (8件)
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