特許

J-GLOBAL ID：200903026186644519

ITO膜研磨用研磨液及び基板の研磨方法

発明者： 小野 裕 ,  上方 康雄 ,  上田 俊輔 ,  芦沢 寅之助
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (6件)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  川又 澄雄 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-305228
公開番号（公開出願番号）：特開2007-154176
出願日： 2006年11月10日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：

【課題】有機ELや液晶パネルに用いられるITO表面の凹凸を効率的に解消することができる研磨液を提供する。【解決手段】水と、前記水に分散させたコロイダルシリカと、保護膜形成剤とを含む研磨液であり、該研磨液のpHが2〜3の範囲であり、かつコロイダルシリカの平均粒径が5nm〜50nmであるITO(Indium-Tin-Oxide)膜研磨用研磨液、及び研磨する膜を形成した基板を研磨定盤の研磨布に押しあて加圧し、前記のITO膜研磨用研磨液を膜と研磨布との間に供給しながら、基板と研磨定盤を動かして膜を研磨する基板の研磨方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

水と、前記水に分散させたコロイダルシリカと、保護膜形成剤とを含む研磨液であり、該研磨液のpHが2〜3の範囲であり、かつコロイダルシリカの平均粒径が5nm〜50nmであるITO膜研磨用研磨液。

IPC (6件)：

C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/28 ,  G02F 1/13

FI (7件)：

C09K3/14 550D ,  B24B37/00 H ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/28 ,  C09K3/14 550Z ,  G02F1/13 101

Fターム (16件)：

2H088FA18 ,  2H088FA19 ,  2H088HA01 ,  2H088HA02 ,  2H088MA20 ,  3C058DA02 ,  3C058DA15 ,  3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC29 ,  3K107CC45 ,  3K107DD22 ,  3K107DD27 ,  3K107DD46X ,  3K107DD46Y ,  3K107GG23

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 有機EL素子の作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-360495   出願人：チッソ株式会社
• 有機エレクトロルミネセンス素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-078265   出願人：パイオニア株式会社, 東北パイオニア株式会社