特許
J-GLOBAL ID：200903026242343616
ベンゾ[c]ヘテロ5員環化合物の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
飯田 敏三
, 柏木 悠三
, 佐々木 渉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-164889
公開番号（公開出願番号）：特開2006-335737
出願日： 2005年06月03日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：
【課題】 医薬、農薬および電子材料の中間体として有用なベンゾ[c]ヘテロ5員環化合物の新規な工業的製造法を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)で表されるハロメチルベンゼン化合物を出発物質とするベンゾ[c]ヘテロ5員環化合物の製造方法。 {式中、Aはホルミル基又はジハロゲノメチル基を表し、Xは塩素原子もしくは臭素原子を表し、Rはハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のパーフルオロアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、アリール基(該アリール基は、同一或いは異なる、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基により1箇所以上置換されていてもよい。)、ニトロ基、シアノ基又はカルボキシル基を表わし、nは0〜4の整数を表わすが、nが2以上の場合、Rは同一であっても異なっていても良い。}【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表されるハロメチルベンゼン化合物と、下記一般式(2)で表される化合物とを反応させることを特徴とする、下記一般式(3)で表されるベンゾ[c]ヘテロ5員環化合物の製造方法。
IPC (3件)：
C07D 209/44
, C07D 307/88
, C07D 333/72
C07D209/44
, C07D307/88
, C07D333/72
4C037RA20
, 4C204AB01
, 4C204BB04
, 4C204CB04
, 4C204DB01
, 4C204EB01
, 4C204FB01
, 4C204FB03
, 4C204FB08
, 4C204GB01
, 4C204GB24
