特許
J-GLOBAL ID：200903026347515080
荷電粒子ビーム露光方法及び装置
出願人/特許権者：
代理人 (1件)： 松本 眞吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-292650
公開番号（公開出願番号）：特開平9-134869
出願日： 1995年11月10日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：
【要約】【課題】BAAチップの取り替えを容易にし、構造を頑丈にし、露光のスループットを向上させる。【解決手段】 BAAチップ30を、ホルダ60を介してZステージ70で保持する。ホルダ60の下面にボール61のグリッドアレイが形成され、これが配線パターンを介してBAAチップ30のブランキング電極に接続されている。他方、配線基板80には、ボールと対向する面にパッド801が形成され、これが配線パターン802、コネクタ81及び同軸ケーブル82を介してドライバ出力端子に接続されている。配線基板80は、サポータ84及び85で挟持されて鏡筒に固定されている。配線基板80内の終端抵抗804とヒータ83との消費電力の和を略一定にして、熱膨張の変動による露光対象物上のビーム照射点の変動を低減させる。待機中においては、BAAチップ30のブランキング電極対の全ての半数に同時に偏向用電圧を印加して、終端抵抗による発熱を、最大値の半分にする。
請求項（抜粋）：
半導体チップにアパーチャアレイが形成され、各アパーチャに1対のブランキング電極が形成され、該ブランキング電極からアパーチャアレイ形成面周部まで延びたリードパターンが形成されたブランキングアパーチャアレイチップと、該ブランキングアパーチャアレイチップに荷電粒子ビームを投射させてマルチビームにする荷電粒子ビーム放射装置と、該ブランキングアパーチャアレイチップと露光対象物との間に配置され、該マルチビームのうち該ブランキング電極で偏向されないビームを通過させる開口が形成され、該ブランキング電極で偏向されたビームを遮断する絞りと、ビットマップデータに応じ該ブランキング電極に電圧を印加して、該マルチビームの各々の露光対象物上へのオン/オフを制御することにより、該ビットマップデータに応じたパターンを該露光対象上に露光させるマルチビーム制御装置と、を有する荷電粒子ビーム露光装置において、該ブランキングアパーチャアレイチップの外周部及びアパーチャアレイ形成面の周部を保持し、該ホルダのアパーチャアレイ形成面側の面に第1端子アレイが形成され、該第1端子アレイが配線パターンを介して該ブランキングアパーチャアレイチップのリードパターンと導通されたホルダと、該第1端子アレイと対向する面に、該第1端子アレイに対応した第2端子アレイが形成され、中央部に、該アパーチャアレイに対応した切欠が形成され、該第2端子アレイから外端部へ向けて延びた配線パターンが形成された配線基板と、該配線基板を鏡筒内で該鏡筒に固定するサポータと、該ホルダを保持し、該ホルダを光軸方向に移動させて該第1端子アレイを該第2端子アレイに押接させるZステージと、を有し、該第1端子アレイと該第2端子アレイとの一方が、先端が底面より細くなっており、該荷電粒子ビーム放射装置、該ブランキングアパーチャアレイチップ、該ホルダ、該Zステージ、該配線基板の光軸側部分及び該絞りは、使用時に内部が真空にされる鏡筒内に配置されており、該配線基板の該配線パターンを介して該ブランキングアパーチャアレイチップ上の該ブランキング電極に電圧を印加するようにしたことを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
引用特許：
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