特許
J-GLOBAL ID：200903026357711520

低熱膨張高剛性セラミックス

発明者：
井原 俊之

井原 俊之 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-090758
公開番号（公開出願番号）：特開2000-281454
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】半導体製造プロセスにおける露光装置の部品等に適した低熱膨脹高剛性セラミックスを提供する。【解決手段】負の熱膨脹特性を有するLiAlSiO4と、正の熱膨脹特性を有し、かつ高剛性特性を有するSi3N4又はSiCと、MgOの3成分で構成する。
請求項（抜粋）：
LiAlSiO4 と、Si3 N4 又はSiCと、MgOの3成分から成ることを特徴とする低熱膨張高剛性セラミックス。
IPC (3件)：
C04B 35/657 ,  C04B 35/565 ,  C04B 35/584
FI (3件)：
C04B 35/62 D ,  C04B 35/56 101 B ,  C04B 35/58 102 B
Fターム (11件)：
4G001BA01 ,  4G001BA06 ,  4G001BA22 ,  4G001BA32 ,  4G001BB01 ,  4G001BB06 ,  4G001BB22 ,  4G001BB32 ,  4G001BD05 ,  4G001BD11 ,  4G001BD18
引用特許：
審査官引用 (8件)
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