特許
J-GLOBAL ID：200903026376851278

複数の容量および誘導プラズマ源を備えたプラズマ処理リアクタ

発明者：
ディンドサ・ラジンダー

ディンドサ・ラジンダー について


出願人/特許権者：
ラム リサーチ コーポレーション

ラム リサーチ コーポレーション について


代理人 (1件)： 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-555398
公開番号（公開出願番号）：特表2009-527128
出願日： 2007年02月15日
公開日（公表日）： 2009年07月23日
要約：
【解決手段】概して、本発明の実施形態は、改良されたチャンバ洗浄機構、装置、および方法を提供する。本発明は、エッチング処理のさらなる調整を可能にするために利用されてもよい。一実施形態において、プラズマを生成するよう構成されたプラズマ処理チャンバは、基板を受けるよう構成された内側下部電極と、内側下部電極の外側に配置された外側下部電極とを備えた下部電極アセンブリを備えている。プラズマ処理チャンバは、上部電極を備え内側下部電極と外側下部電極との真上に配置された上部電極アセンブリを、さらに備える。【選択図】図1A
請求項（抜粋）：
プラズマを生成するよう構成されたプラズマ処理チャンバであって、 基板を受けるよう構成された内側下部電極と、前記内側下部電極の外側に配置された外側下部電極とを備えた下部電極アセンブリと、 上部電極を備える上部電極アセンブリとを備え、前記上部容量電極は、前記内側下部電極と前記外側下部電極との真上に配置されている、プラズマ処理チャンバ。
IPC (1件)：
H01L 21/306
FI (3件)：
H01L21/302 101B ,  H01L21/302 101C ,  H01L21/302 101H
Fターム (16件)：
5F004AA01 ,  5F004AA15 ,  5F004BA06 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB22 ,  5F004BD01 ,  5F004CA03 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA16 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F004DB03 ,  5F004EB01 ,  5F004EB03
引用特許：
審査官引用 (5件)
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