特許
J-GLOBAL ID：200903026423555933

塗布装置および塗布方法

発明者：
増市 幹雄

増市 幹雄 について

, 
高村 幸宏

高村 幸宏 について

, 
森脇 三造

森脇 三造 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 梁瀬 右司 ,  振角 正一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-239372
公開番号（公開出願番号）：特開2004-074050
出願日： 2002年08月20日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】塗布領域に液体を精度良く塗布することができる塗布装置および塗布方法を提供する。【解決手段】マスク4を試塗位置に位置させた状態でノズルをX方向に往復移動させながらマスク4に向けて有機EL材料を吐出させて塗布軌跡CLをマスク4の内周面上に形成する。そして、この塗布軌跡CLの光学像ICLをCCDカメラで撮像し、その塗布軌跡CLを示す画像データを制御部のメモリに一時的に記憶する。また、マスク4を塗布位置に位置させた状態で基板1の溝11の光学像I11をCCDカメラで撮像し、その溝11を示す画像データを制御部のメモリに一時的に記憶する。そして、それらの画像データに基づき塗布軌跡CLと溝11とが一致するように基板1を位置決めする。その後で、塗布処理を実行する。【選択図】 図8
請求項（抜粋）：
基板とノズルとを相対的に移動させながら前記ノズルから液体を前記基板に供給することで、前記基板の所定の塗布領域に前記液体を塗布する塗布装置において、 前記基板に対して前記ノズルを相対移動させながら前記ノズルから液体を吐出することで形成される塗布軌跡を撮像する撮像手段と、 前記撮像手段から出力される前記塗布軌跡に関する塗布軌跡情報に基づき、前記塗布軌跡が前記塗布領域に一致するように、前記基板と前記ノズルとの相対的な位置関係を調整する制御手段と を備えたことを特徴する塗布装置。
IPC (8件)：
B05C11/10 ,  B05B15/04 ,  B05C5/00 ,  B05C11/00 ,  B05C13/02 ,  B05D1/26 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (8件)：
B05C11/10 ,  B05B15/04 102 ,  B05C5/00 101 ,  B05C11/00 ,  B05C13/02 ,  B05D1/26 Z ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (31件)：
3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4D073AA01 ,  4D073BB03 ,  4D073DB03 ,  4D073DB17 ,  4D075AC07 ,  4D075AC93 ,  4D075AD11 ,  4D075BB65Z ,  4D075CB08 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EC11 ,  4F041AA02 ,  4F041AB02 ,  4F041BA21 ,  4F041BA59 ,  4F042AA02 ,  4F042AA10 ,  4F042BA08 ,  4F042BA25 ,  4F042CC04 ,  4F042CC06 ,  4F042DF03 ,  4F042DF32 ,  4F042DH09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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