特許

J-GLOBAL ID：200903026547003440

アルケニルフェノール系共重合体及びこれらの製造方法

発明者： 信原 幸和 ,  小林 朝巳
出願人/特許権者： 日本曹達株式会社
代理人 (1件)： 廣田 雅紀 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-154614
公開番号（公開出願番号）：特開2002-348328
出願日： 2001年05月23日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【課題】 酸に対して敏感な部分と、部分的に水酸基が保護された部分とを備えた構造制御された化学増幅型レジストのベースポリマーを得ること。【解決手段】 アセタール構造を有する保護基で水酸基を保護したアルケニルフェノール誘導体による重合体セグメントと、アセタール構造を有する保護基よりも酸に対して抵抗する保護基により保護したアルケニルフェノール誘導体による重合セグメントと、酸に対して比較的敏感なエステル部分を有するアクリル酸誘導体による重合体セグメントとを結合させてなる新規共重合体を、弱酸で処理し、アセタール構造を有する保護基を選択的に脱離させた水酸基を有する重合セグメントと、アセタール構造を有する重合体セグメントと、酸に対して敏感なエステル部分を有するアクリル酸誘導体による重合体セグメントとを有する新規なアルケニルフェノール系共重合体を得る。

請求項（抜粋）：

式(I)【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は水素原子又はC1〜C3アルキル基を表し、R3は水素原子、C1〜C6アルキル基、又はC1〜C6アルコキシ基を表し、R4は直鎖又は分枝鎖を有するC1〜C20アルキル基、C5〜C10シクロアルキル基、又は無置換もしくは置換C6〜C20アリール基を表し、R2とR3又はR2とR4は一緒になって環を形成してもよい。)で表される繰り返し単位(A)、式(II)【化2】(式中、R5は水素原子又はメチル基を表し、R6はアセタール又はケタール構造を含まない酸性条件下で脱離・分解する基を表す。)で表される繰り返し単位(B)、及び式(III)【化3】(式中、l、m、nはそれぞれ独立に1又は2を表し、R7は水素原子又はメチル基を表し、R8は水素原子、又は直鎖もしくは分枝鎖を有するC1〜C4アルキル基を表し、R21〜R30はそれぞれ独立に水素原子又はヘテロ原子を含んでもよい炭素数1〜15の1価の炭化水素基、又は互いに結合して環を形成してもよいヘテロ原子若しくはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数1〜15の2価の炭化水素基を表し、R8、R21及びR22、R23乃至R26、又はnが2の場合のR27及びR28は隣接する炭素に結合するもの同士で何も介さずに結合し、二重結合を形成してもよく、l、m又はnが2の場合、R21とR22、R23とR24、又はR27とR28はそれぞれ同一又は相異なっていてもよい。)で表される繰り返し単位(C)を含むことを特徴とするアルケニルフェノール系共重合体。

IPC (5件)：

C08F212/14 ,  C08F 8/12 ,  C08F220/12 ,  C08F297/02 ,  G03F 7/039 601

FI (5件)：

C08F212/14 ,  C08F 8/12 ,  C08F220/12 ,  C08F297/02 ,  G03F 7/039 601

Fターム (80件)：

2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J026HA05 ,  4J026HA26 ,  4J026HA32 ,  4J026HA39 ,  4J026HB11 ,  4J026HB26 ,  4J026HB32 ,  4J026HE01 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08R ,  4J100AQ01R ,  4J100AR28R ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03H ,  4J100BA03R ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA11R ,  4J100BA16R ,  4J100BA20R ,  4J100BA29R ,  4J100BA40R ,  4J100BA52R ,  4J100BA53R ,  4J100BA56R ,  4J100BA76Q ,  4J100BA77Q ,  4J100BC02P ,  4J100BC02R ,  4J100BC03P ,  4J100BC03R ,  4J100BC04P ,  4J100BC04R ,  4J100BC07R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09R ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC43R ,  4J100BC48P ,  4J100BC49P ,  4J100BC49R ,  4J100BC53P ,  4J100BC54R ,  4J100BC69P ,  4J100BC83P ,  4J100CA05 ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA08 ,  4J100FA17 ,  4J100FA19 ,  4J100HA61 ,  4J100HB25 ,  4J100HB26 ,  4J100HB52 ,  4J100HC27 ,  4J100HC71 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-079458   出願人：富士写真フイルム株式会社
• アルケニルフェノ-ル系共重合体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-264554   出願人：日本曹達株式会社
• アルケニルフェノール系共重合体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-263362   出願人：日本曹達株式会社
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-028895   出願人：住友化学工業株式会社