特許
J-GLOBAL ID：200903026548714375
フォトマスク及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-133835
公開番号（公開出願番号）：特開平8-328235
出願日： 1995年05月31日
公開日（公表日）： 1996年12月13日
要約：
【要約】【構成】 透明基板1上に、ハーフトーン膜2によってパターンが形成されており、透過光のサイドローブが発生する位置に対応する箇所の少なくとも一部に遮光膜3が形成されている。【効果】 不要パターンの転写を防止し、且つ、ハーフトーンマスク本来の光コントラストを維持することを可能にする。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、半透明膜によってパターンが形成されているフォトマスクにおいて、透過光の1次回折光が転写される位置に対応する箇所の少なくとも一部に遮光膜が形成されていることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
