特許
J-GLOBAL ID：200903026670154232
フォトマスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-222190
公開番号（公開出願番号）：特開平7-306524
出願日： 1994年09月16日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：
【要約】【目的】 位相シフト法により得られる高解像のパターン転写を可能とせしめるフォトマスクを提供すること。【構成】 投影光学系を介して所定のパターンを被露光基板上に露光するために用いるフォトマスクにおいて、露光光に対して光学的に透明な基板上11に、露光光を遮光する遮光部材12によって遮光部と透光部とが形成されたパターンを有し、透光部の透明基板形状が全て凹状で、この凹部の側壁が遮光部材12のエッジと略一致する垂直形状であり、且つ隣合う透光部の凹部深さD1 ,D2 が、D1 =λ/2(n-1),D2 =2D1 の関係を満たすように設定したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
投影光学系を介して所定のパターンを被露光基板上に露光するために用いられるフォトマスクにおいて、露光光に対して光学的に透明な基板上に、露光光を遮光する遮光部材によって遮光部と透光部とが形成されたパターンを有し、透光部の透明基板形状が全て凹状で、この凹部の側壁が遮光部材のエッジと略一致する垂直形状であり、且つ隣合う透光部の凹部深さが異なることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
