特許
J-GLOBAL ID：200903026692488975

パターンマッチング方法及び装置

発明者：
▲高▼根 淳

▲高▼根 淳 について

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依田 晴夫

依田 晴夫 について

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吉田 昌司

吉田 昌司 について

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池田 光二

池田 光二 について

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小沢 康彦

小沢 康彦 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-201138
公開番号（公開出願番号）：特開2007-005818
出願日： 2006年07月24日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：
【課題】オペレータフリーな完全自動化された高スループットを実現するパターンマッチング方法及び装置を提供する。【解決手段】本発明は、設計データと走査型電子顕微鏡にて取得される画像との間でパターンマッチングを行うパターンマッチング方法及び装置であって、設計データをビットマップに変換して、当該ビットマップ化された設計データと、走査型電子顕微鏡によって取得された画像とのマッチングを行うことを特徴とする。ビットマップは、エッジ強調が行われた後に、マッチング処理が行われる。このエッジ強調が行われたビットマップには、さらに、平滑化処理が施された後に、マッチング処理が行われる。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
設計データと走査型電子顕微鏡にて取得される画像との間でパターンマッチングを行うパターンマッチング方法において、 前記設計データをビットマップに変換して、当該ビットマップ化された設計データと、前記走査型電子顕微鏡によって取得された画像とのマッチングを行うことを特徴とするパターンマッチング方法。
IPC (3件)：
H01L 21/66 ,  G01B 15/04 ,  G06T 7/00
FI (3件)：
H01L21/66 J ,  G01B15/04 K ,  G06T7/00 300D
Fターム (39件)：
2F067AA13 ,  2F067AA26 ,  2F067AA54 ,  2F067BB04 ,  2F067CC17 ,  2F067EE10 ,  2F067GG08 ,  2F067HH06 ,  2F067HH13 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067KK08 ,  2F067QQ02 ,  2F067RR12 ,  2F067RR28 ,  2F067RR30 ,  2F067RR35 ,  2F067RR36 ,  2F067RR44 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DB30 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  5L096BA03 ,  5L096BA18 ,  5L096EA06 ,  5L096EA43 ,  5L096FA06 ,  5L096FA34 ,  5L096FA64 ,  5L096FA67 ,  5L096FA69 ,  5L096GA55 ,  5L096JA09 ,  5L096KA15
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (4件)
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