特許
J-GLOBAL ID：200903067863338584
自動焦点制御方法および自動焦点制御システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-146363
公開番号（公開出願番号）：特開平10-333020
出願日： 1997年06月04日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：
【要約】【課題】 パターン認識の精度を落とすことなく、自動焦点調整処理を行う頻度をできるだけ少なくしてスループットの向上を図る。【解決手段】 本発明の自動焦点制御システムは、電子ビーム鏡筒1と、本体制御装置2と、ホストコンピュータ3とを備え、ホストコンピュータ3内には画像処理部32などが設けられる。ウエハ内のパターン寸法を測定する場合には、グローバルアライメント調整を行った後に、ウエハ内の各測定点のSEM画像に基づいてパワースペクトルを求め、パワースペクトルに高周波成分が所定の基準値以上含まれている場合には自動焦点調整を行わずにパターン認識処理を行い、高周波成分が基準値未満しか含まれない場合には自動焦点調整の直前にパターン認識処理を行う。これにより、自動焦点調整処理を行う頻度を軽減でき、測定時のスループットを向上できる。
請求項（抜粋）：
顕微鏡にセットされた測定対象に対して自動焦点調整処理を行うか否かを選択可能な自動焦点制御方法であって、前記顕微鏡に取り込まれた前記測定対象の画像に対して一次元または二次元のフーリエ変換処理を行った結果に基づいてパワースペクトルを求め、このパワースペクトルに所定の周波数以上の周波数成分が含まれる割合が所定の基準値以上であれば、前記自動焦点調整処理を行わずに前記測定対象のパターン認識処理を行い、前記割合が前記基準値未満であれば、前記パターン認識処理を行う直前に前記自動焦点調整処理を行うことを特徴とする自動焦点制御方法。
IPC (4件)：
G02B 7/28
, G02B 7/36
, G03B 13/36
, H01J 37/21
G02B 7/11 J
, H01J 37/21 B
, G02B 7/11 N
, G02B 7/11 D
, G03B 3/00 A
