特許
J-GLOBAL ID：200903026526692971

パターンマッチング方法及び装置

発明者：
▲高▼根 淳

▲高▼根 淳 について

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依田 晴夫

依田 晴夫 について

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吉田 昌司

吉田 昌司 について

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池田 光二

池田 光二 について

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小沢 康彦

小沢 康彦 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-332968
公開番号（公開出願番号）：特開2008-159061
出願日： 2007年12月25日
公開日（公表日）： 2008年07月10日
要約：
【課題】オペレータフリーな完全自動化された高スループットを実現するパターンマッチング方法及び装置を提供する。【解決手段】本発明は、設計データと走査型電子顕微鏡にて取得される画像との間でパターンマッチングを行うパターンマッチング方法及び装置であって、設計データのエッジと、走査型電子顕微鏡によって取得される画像のエッジ間で、方向別のマッチング処理を行う。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
設計データと走査型電子顕微鏡によって取得される画像との間でパターンマッチングを行うパターンマッチング方法において、 前記設計データのエッジと、前記走査型電子顕微鏡によって取得される画像のエッジ間で、方向別のマッチング処理を行うことを特徴とするパターンマッチング方法。
IPC (5件)：
G06T 1/00 ,  H01L 21/66 ,  G01N 23/225 ,  G06T 7/00 ,  G06T 7/60
FI (5件)：
G06T1/00 305B ,  H01L21/66 J ,  G01N23/225 ,  G06T7/00 300E ,  G06T7/60 300A
Fターム (39件)：
2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001FA01 ,  2G001GA06 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001JA03 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DB18 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  5B057AA03 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CE03 ,  5B057CE05 ,  5B057DA03 ,  5B057DA16 ,  5B057DC03 ,  5B057DC09 ,  5B057DC16 ,  5B057DC33 ,  5L096BA03 ,  5L096CA02 ,  5L096DA02 ,  5L096EA06 ,  5L096FA06 ,  5L096FA64 ,  5L096FA67 ,  5L096FA69 ,  5L096HA07 ,  5L096JA09
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (5件)
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