特許
J-GLOBAL ID：200903026735182018
X線発生装置、及びこれを用いた露光装置やデバイス生産方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-267029
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115803
出願日： 1995年10月16日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：
【要約】【課題】 良好な結像性能を得ることを可能とするX線発生装置やこれを用いた高性能な露光装置などを提供すること。【解決手段】 レーザープラズマ光源を用いたX線発生装置において複数の発光点を配列し、ここから発生するX線で物体をケーラー照明する。複数の発光点を生成するためには、複数のレーザー光をターゲット上の複数位置に照射する、あるいは一つのレーザー光源からのレーザー光を偏向してターゲット面上の複数の位置に時系列に照射する。
請求項（抜粋）：
複数の発光点を備えたことを特徴とするX線発生装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G21K 5/02
, H05G 2/00
H01L 21/30 531 S
, G21K 5/02 X
, H05G 1/00 K
