特許
J-GLOBAL ID：200903026763097018

エキシマレーザ及びエキシマランプ用のシリカガラス光学材料及びその製造方法

発明者：
山形 茂

山形 茂 について


出願人/特許権者：
信越石英株式会社

信越石英株式会社 について


代理人 (1件)： 武田 正彦 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-296101
公開番号（公開出願番号）：特開2001-114529
出願日： 1999年10月19日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
要約：
【要約】【課題】 波長155〜195nmのエキシマレーザ、エキシマランプに対して初期透過率が高く、屈折率変動幅Δnが小さく、しかも長時間照射下での耐久性に優れたシリカガラス光学材料を提供する。【解決手段】 本発明は、波長155〜195nmのエキシマレーザ及びエキシマランプからの光線用シリカガラス光学材料であって、超高純度であり、OH基を1〜100wtppm、H2を5×1016〜5×1019分子/cm3、及びFを10〜10,000wtppmを含有し、F以外のハロゲンを実質的に含有せず、かつ屈折率変動幅Δnが3×10-6〜3×10-7であることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
波長155〜195nmのエキシマレーザ及びエキシマランプからの光線用シリカガラス光学材料であって、超高純度であり、OH基を1〜100wtppm、H2を5×1016〜5×1019分子/cm3、及びFを10〜10,000wtppm含有し、F以外のハロゲンを実質的に含有せず、かつ屈折率変動幅Δnが3×10-6〜3×10-7であることを特徴とするシリカガラス光学材料。
IPC (4件)：
C03C 3/06 ,  C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  G02B 1/00
FI (5件)：
C03C 3/06 ,  C03B 8/04 L ,  C03B 20/00 E ,  C03B 20/00 F ,  G02B 1/00
Fターム (10件)：
4G014AH15 ,  4G014AH21 ,  4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062CC07 ,  4G062GE02 ,  4G062MM02 ,  4G062MM36 ,  4G062NN01 ,  4G062NN16
引用特許：
審査官引用 (3件)

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