特許
J-GLOBAL ID:200903081834889116
紫外光透過用合成石英ガラスおよびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井内 龍二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-226302
公開番号(公開出願番号):特開平8-091867
出願日: 1994年09月21日
公開日(公表日): 1996年04月09日
要約:
【要約】【構成】 OH基の濃度が200ppm以下、Cl濃度が1ppm以下で、かつSi-Si結合の濃度が1015個/cm3 以下である紫外光透過用合成石英ガラス。【効果】 紫外光、特に155nm以上の真空紫外光に対して大きな透過率を示し、真空紫外光を利用するランプ用のガス封入容器や真空紫外光を利用する装置の窓、レンズ、プリズム等としての優れた材料を提供することができる。
請求項(抜粋):
OH基の濃度が200ppm以下、Cl濃度が1ppm以下で、かつSi-Si結合の濃度が1015個/cm3 以下であることを特徴とする紫外光透過用合成石英ガラス。
IPC (6件):
C03C 4/00
, C01B 33/18
, C03B 8/04
, C03B 20/00
, C03C 3/06
, G02B 1/00
引用特許:
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