光造形システムにおけるレーザビームの偏向制御方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西川惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-226693
公開番号（公開出願番号）：特開2003-039562
出願日： 2001年07月26日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：

【要約】【課題】レーザビーム照射位置の補正を高精度で行う。【解決手段】被固化剤に偏向手段を介してレーザビームを照射して固化させた固化層を複数層積み重ねて所望の三次元形状モデルを形成するにあたり、モデル形成時照射位置情報の取得段階と、差分データ取得段階と、偏向制御段階とからなる途中補正動作をモデル形成中に繰り返すとともに、途中補正動作に際し、順次レーザビームを反射させる2つのスキャンミラー21,22からなる偏向手段2における一方のスキャンミラーによる走査方向について測定及び補正を行い、その後、他方のスキャンミラーによる走査方向について測定及び補正を行う。

請求項（抜粋）：

被固化剤に偏向手段を介してレーザビームを照射して固化させた固化層を複数層積み重ねて所望の三次元形状モデルを形成するにあたり、予め所定の方法にて加工面でのレーザビーム照射位置の較正作業を行って、その状態で三次元モデル形成スタート直前に照射ターゲット上にレーザビームを照射し、照射ターゲット上の照射位置を複数箇所で測定してスタート時照射位置情報を取得する段階と、三次元モデルの形成動作中において、照射ターゲット上にレーザビームを照射してその照射位置を複数箇所で測定してモデル形成時照射位置情報を取得する段階と、スタート時照射位置情報とモデル形成時照射位置情報とを比較して、その差分データを得る差分データ取得段階と、差分データからレーザビーム照射位置とレーザビームの偏向用のミラーの回転角との関係に基づいてミラーの補正角を決定してこの補正角に基づいてレーザビームの偏向制御の補正を行う偏向制御段階とを有して、モデル形成時照射位置情報の取得段階と、差分データ取得段階と、偏向制御段階とからなる途中補正動作をモデル形成中に繰り返すとともに、途中補正動作に際し、順次レーザビームを反射させる2つのスキャンミラーからなる偏向手段における一方のスキャンミラーによる走査方向について測定及び補正を行い、その後、他方のスキャンミラーによる走査方向について測定及び補正を行うことを特徴とする光造形システムにおけるレーザビームの偏向制御方法。

Fターム (6件)：

4F213AA44 , 4F213AM32 , 4F213AP11 , 4F213AP12 , 4F213AR12 , 4F213AR13

引用特許：

出願人引用 (4件)

三次元形状の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-127991 出願人：松下電工株式会社
レーザビームを偏向させるための制御装置を較正するための方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願平8-512878 出願人：イーオーエスゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングイレクトロオプティカルシステムズ
3次元物体を製造する装置を校正する方法、校正装置、及び3次元物体を製造する装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-119348 出願人：イーオーエスゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングイレクトロオプティカルシステムズ

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