特許
J-GLOBAL ID：200903026847898776

基板処理装置

発明者：
木▲崎▼ 幸治

木▲崎▼ 幸治 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-161739
公開番号（公開出願番号）：特開平10-012710
出願日： 1996年06月21日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 オペレータの作業を軽減しながら処理テーブル上に付着した異物を適切に除去して当該異物に起因した基板品質の低下を効果的に防止する。【解決手段】 基板Wをテーブル26上に真空吸着して保持し、液供給ヘッド31をレール28に沿って一軸方向にスライドさせながらこの液供給ヘッド31からレジスト液を供給して基板Wの表面にレジスト液の薄膜を形成するようにスリットコーター16を構成した。また、テーブル26の表面の異物を吸引して除去するクリーニングヘッド41を設け、これをサーボモータ36の駆動によりレール28に沿って一軸方向にスライドさせるようにした。そして、基板Wの搬出後、クリーニングヘッド41を上記テーブル26上で移動させながらテーブル26表面を清掃する。
請求項（抜粋）：
搬入される被処理基板を作業テーブル表面に保持した状態で所定の処理を施して次工程に搬出する基板処理装置において、作業テーブル上に付着した異物を除去するクリーニング装置と、このクリーニング装置を作業テーブル表面に対向する作業位置と作業テーブル外方の退避位置とに亘って移動可能にする駆動手段と、上記クリーニング装置を退避位置から作業位置に移動させて作業テーブル上の異物を除去すべく上記クリーニング装置及び駆動手段を制御する制御手段とを備えてなることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  B08B 1/02
FI (2件)：
H01L 21/68 N ,  B08B 1/02
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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