特許
J-GLOBAL ID：200903026868414329
ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-367670
公開番号（公開出願番号）：特開2001-183805
出願日： 1999年12月24日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：
【要約】【課題】ガラス基板上に金属およびシリコンを主たる構成元素として含む単層膜若しくは多層膜を設けたハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、膜設計に用いる光学定数の自由度が大きく成膜後に膜に微小欠陥が発生しにくくレーザー光に対する耐性のあるハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。【解決手段】前記単層膜若しくは多層膜を構成する物質の内、金属とシリコンの間で結合した金属シリサイドを主要構成要素とする領域中に、シリサイド化されていない金属及び金属元素と化合物になっていないシリコンの少なくとも一方が含有されていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ガラス基板上に金属およびシリコンを主たる構成元素として含む単層膜若しくは多層膜を設けたハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、前記単層膜若しくは多層膜を構成する物質の内、金属とシリコンの間で結合した金属シリサイドを主要構成要素とする領域中に、シリサイド化されていない金属及び金属元素と化合物になっていないシリコンの少なくとも一方が含有されていることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
