特許
J-GLOBAL ID:200903026911670482
イオン処理装置および方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-174086
公開番号(公開出願番号):特開2006-346546
出願日: 2005年06月14日
公開日(公表日): 2006年12月28日
要約:
【課題】 本発明は、廃水を処理するイオン処理装置および処理方法であって、リンを低濃度まで除去可能とし、厄介な凝集沈殿物の発生がなく、吸着したリンを再資源化できるイオン処理装置及び方法を提供することを目的とする。【解決手段】 少なくとも、多孔性成形体が充填されたイオン吸着手段、および該多孔性成形体と接触した脱着液の冷却手段を含むイオン処理装置であって、該多孔性成形体が有機高分子樹脂及び無機イオン吸着体を含んでなる、外表面に開口する連通孔を有する多孔性成形体であり、連通孔を形成するフィブリルの内部に空隙を有し、かつ、該空隙の少なくとも一部はフィブリルの表面で開孔しており、該フィブリルの外表面及び内部の空隙表面に無機イオン吸着体が担持されていることを特徴とするイオン処理装置およびイオン処理方法。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
少なくとも、多孔性成形体が充填されたイオン吸着手段、および該多孔性成形体と接触した脱着液の冷却手段を含むイオン処理装置であって、
該多孔性成形体が有機高分子樹脂及び無機イオン吸着体を含んでなる、外表面に開口する連通孔を有する多孔性成形体であり、連通孔を形成するフィブリルの内部に空隙を有し、かつ、該空隙の少なくとも一部はフィブリルの表面で開孔しており、該フィブリルの外表面及び内部の空隙表面に無機イオン吸着体が担持されていることを特徴とするイオン処理装置。
IPC (6件):
C02F 1/28
, B01J 20/06
, B01J 20/08
, B01J 20/10
, B01J 20/34
, C08J 9/28
FI (7件):
C02F1/28 F
, C02F1/28 E
, B01J20/06 B
, B01J20/08 C
, B01J20/10 C
, B01J20/34 G
, C08J9/28 102
Fターム (78件):
4D024AA04
, 4D024AB11
, 4D024AB12
, 4D024AB13
, 4D024AB14
, 4D024AB15
, 4D024AB17
, 4D024BA14
, 4D024BB01
, 4D024BC01
, 4D024CA01
, 4D024DA03
, 4D024DA04
, 4D024DA07
, 4D024DA08
, 4D024DB02
, 4D024DB04
, 4D024DB05
, 4D024DB12
, 4D024DB15
, 4F074AA38
, 4F074AA43
, 4F074AA49
, 4F074AA54
, 4F074AA87
, 4F074AC17
, 4F074AC20
, 4F074AC32
, 4F074AE06
, 4F074AG20
, 4F074AH04
, 4F074CB43
, 4F074CB45
, 4F074CC04X
, 4F074CC26Z
, 4F074CC27Z
, 4F074CC28Z
, 4F074DA13
, 4F074DA59
, 4G002AA06
, 4G002AB02
, 4G002AD04
, 4G002AE05
, 4G066AA12B
, 4G066AA19B
, 4G066AA20B
, 4G066AA21B
, 4G066AA22B
, 4G066AA23B
, 4G066AA25B
, 4G066AA26B
, 4G066AA27B
, 4G066AA38A
, 4G066AA47A
, 4G066AC13B
, 4G066AC13C
, 4G066AC15B
, 4G066AC15C
, 4G066AC31B
, 4G066AC31C
, 4G066AC33B
, 4G066AC33C
, 4G066BA21
, 4G066BA22
, 4G066CA23
, 4G066CA28
, 4G066CA31
, 4G066CA32
, 4G066CA41
, 4G066CA45
, 4G066DA08
, 4G066FA01
, 4G066FA03
, 4G066FA05
, 4G066FA17
, 4G066FA21
, 4G066FA26
, 4G066GA11
引用特許:
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