特許

J-GLOBAL ID：200903027044214688

ポリマー、およびそれを含むフォトレジスト

発明者： アンソニー・ザンピーニ ,  タオ・チャン ,  ジェイ・ヒョン・リー
出願人/特許権者： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
代理人 (3件)： 千田 稔 ,  辻永 和徳 ,  橋本 幸治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-058830
公開番号（公開出願番号）：特開2004-295104
出願日： 2004年03月03日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

【課題】短波長、たとえば300nm未満および200nm未満において、高解像度の画像が形成されるレジスト用の樹脂組成物を提供する。【解決手段】非炭素四価化学種(Si、Ti、Ge、Zr、Sn)を有する新規ポリマー、およびそのようなポリマーを含有するフォトイメージャブル組成物であり、好ましいポリマーは、有機であり、たとえば1種類以上のポリマー繰り返し単位が炭素原子を含む。SiO2またはTiO2の繰り返し単位を含むポリマー、該ポリマーと光活性成分を含有するフォトイメージャブル組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

光活性成分とポリマー成分とを含むフォトイメージャブル組成物であって、 前記ポリマー成分は、次式:

IPC (2件)：

G03F7/075 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/075 ,  H01L21/30 502R

Fターム (11件)：

2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-028236   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 活性成分及びそれを用いた感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-370476   出願人：株式会社関西新技術研究所
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-270090   出願人：富士写真フイルム株式会社