特許
J-GLOBAL ID:200903027044214688

ポリマー、およびそれを含むフォトレジスト

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 千田 稔 ,  辻永 和徳 ,  橋本 幸治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-058830
公開番号(公開出願番号):特開2004-295104
出願日: 2004年03月03日
公開日(公表日): 2004年10月21日
要約:
【課題】短波長、たとえば300nm未満および200nm未満において、高解像度の画像が形成されるレジスト用の樹脂組成物を提供する。【解決手段】非炭素四価化学種(Si、Ti、Ge、Zr、Sn)を有する新規ポリマー、およびそのようなポリマーを含有するフォトイメージャブル組成物であり、好ましいポリマーは、有機であり、たとえば1種類以上のポリマー繰り返し単位が炭素原子を含む。SiO2またはTiO2の繰り返し単位を含むポリマー、該ポリマーと光活性成分を含有するフォトイメージャブル組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
光活性成分とポリマー成分とを含むフォトイメージャブル組成物であって、 前記ポリマー成分は、次式:
IPC (2件):
G03F7/075 ,  H01L21/027
FI (2件):
G03F7/075 ,  H01L21/30 502R
Fターム (11件):
2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17
引用特許:
審査官引用 (3件)

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