特許
J-GLOBAL ID：200903027066036503

ミクロ相分離構造物の製造方法

発明者：
戸木田 雅利

戸木田 雅利 について

, 
泉 達矢

泉 達矢 について

, 
渡辺 順次

渡辺 順次 について


出願人/特許権者：
リンテック株式会社

リンテック株式会社 について


代理人 (1件)： 大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-237910
公開番号（公開出願番号）：特開2008-055579
出願日： 2006年09月01日
公開日（公表日）： 2008年03月13日
要約：
【課題】ミクロドメイン構造を高度に配向制御することができ、高い配向度を有し、ナノオーダー間隔のミクロドメイン構造を形成することができるミクロ相分離構造物の製造方法及び該製造方法により得られる構造物を提供すること。【解決手段】液晶多形を示すセグメントと非晶性セグメントとを有するブロック共重合体をせん断ずり印加により配向制御することを特徴とするミクロ相分離構造物の製造方法及び当該製造方法より得られるミクロ相分離構造物である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
液晶多形を示すセグメントと非晶性セグメントとを有するブロック共重合体をせん断ずり印加により配向制御することを特徴とするミクロ相分離構造物の製造方法。
IPC (3件)：
B82B 3/00 ,  B82B 1/00 ,  C08F 293/00
FI (3件)：
B82B3/00 ,  B82B1/00 ,  C08F293/00
Fターム (8件)：
4J026HA06 ,  4J026HA28 ,  4J026HA39 ,  4J026HB11 ,  4J026HB28 ,  4J026HB39 ,  4J026HB45 ,  4J026HE01
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示
引用文献：
審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM