特許

J-GLOBAL ID：200903027120516583

化学増幅ポジ型レジスト材料

発明者： 竹村 勝也 ,  土谷 純司 ,  石原 俊信
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-094846
公開番号（公開出願番号）：特開平8-334901
出願日： 1996年03月25日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：

【要約】【解決手段】 ポリシロキサンの末端シラノール基がトリメチルシリル基で保護された下記組成式(1)で示されるポリシロキサン(A)と酸発生剤(B)とを含有することを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。 R(OSiMe3)aSiO(3-a)/2 ...(1)【化1】【効果】 本発明の化学増幅ポジ型レジスト材料は、遠紫外線、電子線、X線等の高エネルギー線に対して高い感度を有し、アルカリ水溶液で現像することによりパターン形成でき、微細加工技術に適するものである。

請求項（抜粋）：

ポリシロキサンの末端シラノール基がトリメチルシリル基で保護された下記組成式(1)で示されるポリシロキサン(A)と酸発生剤(B)とを含有することを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。 R(OSiMe3)aSiO(3-a)/2 ...(1)【化1】

IPC (5件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 放射線感応性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-124774   出願人：沖電気工業株式会社
• 特開平3-039748
  
• ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-294009   出願人：日本電信電話株式会社