物理蒸着構成材及び形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：社本一夫 , 増井忠弐 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行 , 栗田忠彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-566000
公開番号（公開出願番号）：特表2004-533539
出願日： 2001年10月26日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

物理蒸着(PVD)構成材形成方法は、該構成材内に十分な量の応力を誘発させて、該構成材により示される透過磁束を、該応力が誘発される前に示される透過磁束と比較して増大させることを含む。本法は、前記誘発応力のみでは表面グレイン外観を実質的に変化させるのに十分でないところで、前記応力を誘発させる前に前記構成材の主要結晶構造を(200)で配向させることを更に含む。構造を配向することは、構成材板片を断面積の少なくとも約80%減少まで第1回冷間加工することを含む。冷間加工した構成材板片は、その構成材板片の少なくともほぼ最小再結晶化温度で加熱処理され得る。応力を誘発させることは、加熱処理した構成材の断面積の約5%〜約15%の間の減少まで第2回冷間加工をし得る。第1回及び第2回の冷間加工の少なくとも1つが単一方向性であり得る。

請求項（抜粋）：

物理蒸着(PVD)構成材形成方法であって、該構成材内に十分な量の応力を誘発させて、該構成材により示される透過磁束を、該応力が誘発される前に示される透過磁束と比較して増大させることを含んでなる方法。

IPC (1件)：

C23C14/34

FI (1件)：

C23C14/34 A

Fターム (4件)：

4K029BA12 , 4K029CA05 , 4K029DC03 , 4K029DC07

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭63-227775
特公平2-049384
磁気記録媒体用スパッタリングターゲットおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-093608 出願人：日立金属株式会社

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