特許
J-GLOBAL ID：200903027163841666
光学的素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-080813
公開番号（公開出願番号）：特開平9-245964
出願日： 1996年03月08日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：
【要約】【課題】 大気中でも良好な安定性を示し、長寿命の光学的素子の製造方法を提供すること。【解決手段】 発光層を含む有機層2、3、4の積層体上に設けた金属電極1の上に、導電性封止膜7及び絶縁性封止膜8を順次に成膜し、これらの成膜を前記有機層2、3、4及び金属電極1と同じ真空蒸着装置11の中で連続して行う。
請求項（抜粋）：
発光領域を含む有機層の積層体上に電極が設けられている光学的素子を製造するに際し、前記電極を真空成膜条件下で形成した後に、この上に、真空を保持したまま少なくとも導電性封止膜を形成する、光学的素子の製造方法。
引用特許：
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