特許
J-GLOBAL ID：200903027191307306

基板の乾燥処理装置

発明者：
山崎 貴弘

山崎 貴弘 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-276423
公開番号（公開出願番号）：特開2001-099569
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：
【要約】【課題】 この発明は上部エアーナイフと下部エアーナイフとを有する場合に、一方のエアーナイフから噴射される圧縮空気の進行方向が他方のエアーナイフに影響を受けるのを防止した基板の乾燥処理装置を提供することにある。【解決手段】 上部エアーナイフ16A及び下部エアーナイフ16Bは、基板の搬送方向前方に位置する前側面17b及び後方に位置する後側面17aを有するとともに、水平方向に搬送される基板の上面及び下面にそれぞれ圧縮空気を吹き付ける噴射スリット28が形成された基板の乾燥処理装置において、上部エアーナイフと下部エアーナイフは、各噴射スリットを基板の搬送方向後方に向くよう傾斜して配置され、各噴射スリットの傾斜角度は、一方のエアーナイフのスリットから噴射される圧縮空気の流れが他方のエアーナイフの後側面17aによって影響を受けにくい所定以上の角度に設定されることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
上部エアーナイフ及び下部エアーナイフを有し、各エアーナイフは、基板の搬送方向前方に位置する前側面及び後方に位置する後側面を有するとともに、水平方向に搬送される基板の上面及び下面にそれぞれ圧縮空気を吹き付ける噴射スリットが形成された基板の乾燥処理装置において、上部エアーナイフと下部エアーナイフは、各噴射スリットを上記基板の搬送方向後方に向くよう傾斜して配置され、各噴射スリットの傾斜角度は、一方のエアーナイフのスリットから噴射される圧縮空気の流れが他方のエアーナイフの後側面によって影響を受けにくい所定以上の角度に設定されることを特徴とする基板の乾燥処理装置。
IPC (4件)：
F26B 17/10 ,  B08B 5/02 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304
FI (4件)：
F26B 17/10 B ,  B08B 5/02 Z ,  H01L 21/304 651 G ,  H01L 21/304 651 L
Fターム (21件)：
3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB14 ,  3B116BB24 ,  3B116BB32 ,  3B116CC03 ,  3L113AA02 ,  3L113AB10 ,  3L113AC31 ,  3L113AC48 ,  3L113AC49 ,  3L113AC52 ,  3L113AC63 ,  3L113AC65 ,  3L113AC79 ,  3L113AC90 ,  3L113BA34 ,  3L113CA06 ,  3L113DA07 ,  3L113DA11 ,  3L113DA24
引用特許：
審査官引用 (7件)
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