特許
J-GLOBAL ID：200903027194384816

排水処理装置

発明者：
高橋 利洋

高橋 利洋 について


出願人/特許権者：
青木電器工業株式会社

青木電器工業株式会社 について


代理人 (1件)： 白浜 吉治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-191574
公開番号（公開出願番号）：特開2002-001375
出願日： 2000年06月26日
公開日（公表日）： 2002年01月08日
要約：
【要約】【課題】 有機性排水の処理を目的に膜分離装置を使用する貯水槽において、その膜分離装置の濾過速度の低下を防止する。【解決手段】 有機性排水Wが流入・流出する貯水槽2が濾過機21と腐植物質を含んだペレット22を収容するための容器20とを有する。濾過機21は、濾過室26と排水ポンプPとを有し、濾過室26と容器20とが貯水槽3の内部で並置され、濾過室26と容器20との少なくとも一方の下方には散気管25が設けられる。
請求項（抜粋）：
有機性排水を流入・流出させることができる貯水槽の内部に、流入させた前記排水を濾過した後に前記貯水槽の外へ流出させる濾過機を備えた排水処理装置において、前記濾過機が濾過室と排水ポンプとを有し、前記貯水槽の内部では、前記排水中の土壌細菌を好気的条件の下で培養し活性化する腐植物質を含んだ多量のペレットが収容されていて前記排水の入出を可能にするように形成された容器が前記濾過室に並置され、これら容器と濾過室との少なくとも一方の下方には散気管が配置されていることを特徴とする前記処理装置。
IPC (5件)：
C02F 3/06 ZAB ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/00 ,  C02F 3/10
FI (5件)：
C02F 3/06 ZAB ,  B01D 65/02 520 ,  C02F 1/44 F ,  C02F 3/00 G ,  C02F 3/10 A
Fターム (18件)：
4D003AA12 ,  4D003AB02 ,  4D003BA01 ,  4D003BA02 ,  4D003CA02 ,  4D003EA01 ,  4D006HA41 ,  4D006HA93 ,  4D006KA31 ,  4D006KA44 ,  4D006KB22 ,  4D006KB25 ,  4D006KE08P ,  4D006KE13P ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PC54 ,  4D006PC62
引用特許：
審査官引用 (6件)
  • 特開昭10-216795
  • 浄水処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-263114   出願人：日本鋼管株式会社
  • 浸漬型膜分離装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-301837   出願人：株式会社クボタ
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