特許
J-GLOBAL ID：200903027279298560
有機EL素子の製造方法及びその製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-146189
公開番号（公開出願番号）：特開平10-335061
出願日： 1997年06月04日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：
【要約】【課題】 外部から進入する水分や酸素が有機EL素子の信頼性を損なわせるため、この進入を防ぎ経時変化の少ない長寿命化を図った有機EL素子を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の有機EL素子の製造方法は、透明または半透明の基板上に積層された陽極層、有機薄膜、陰極層を有する有機EL素子の外側を封止材によって封止する有機EL素子の製造方法であって、有機EL素子の形成工程から封止材による封止工程までを大気に曝すことなく行う構成を有する。
請求項（抜粋）：
透明または半透明の基板上に積層された陰極層、有機薄膜、陽極層を有する有機EL素子の外側を封止材によって封止した有機EL素子の製造方法であって、前記有機EL素子の形成工程から封止材による封止工程までを大気に曝すことなく行うことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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