新規オニウム塩、光酸発生剤、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-301972
公開番号（公開出願番号）：特開2001-172251
出願日： 2000年10月02日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：

【要約】 (修正有)【解決手段】式1で示されるオニウム塩。(式中、R1はH、又はC1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。R2はH、C1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、又はフェニル基を示す。R3は同一でも異なってもよく、C1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状の置換もしくは非置換のアルキル基、又はC6〜14の置換もしくは非置換のアリール基を示す。MはS又はIを示し、MがSの場合、aは3であり、MがIの場合、aは2である。)【効果】解像性、焦点余裕度に優れ、PEDが長時間にわたる場合にも線幅変動、形状劣化が少なく、塗布後、現像後、剥離後の異物が少なく、現像後のパターンプロファイル形状に優れ、微細加工に適した高解像性を有し、特に遠紫外線リソグラフィーにおいて大いに威力を発揮する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるオニウム塩。【化1】(式中、R1は水素原子、又は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。R2は水素原子、炭素数1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、又はフェニル基を示す。R3は同一でも異なってもよく、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状の置換もしくは非置換のアルキル基、又は炭素数6〜14の置換もしくは非置換のアリール基を示す。Mは硫黄原子又はヨウ素原子を示し、Mが硫黄原子の場合、aは3であり、Mがヨウ素原子の場合、aは2である。)

IPC (6件)：

C07C309/73 , C07C381/12 , C09K 3/00 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (6件)：

C07C309/73 , C07C381/12 , C09K 3/00 K , G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-055224 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-033205 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-333145 出願人：富士写真フイルム株式会社

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