特許
J-GLOBAL ID:200903027336611220
ウエハプローバ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
安富 康男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-313295
公開番号(公開出願番号):特開2003-133374
出願日: 1999年07月15日
公開日(公表日): 2003年05月09日
要約:
【要約】【課題】 軽量で昇温、降温特性に優れており、しかも、プローブカードを押圧した場合にも反りがなく、シリコンウエハの破損や測定ミスを有効に防止することができるウエハプローバを提供すること。【解決手段】 セラミック基板の表面に導体層が形成されてなることを特徴とするウエハプローバ。
請求項(抜粋):
セラミック基板の表面に導体層が形成されてなることを特徴とするウエハプローバ。
Fターム (3件):
4M106AA01
, 4M106BA01
, 4M106DD30
引用特許:
審査官引用 (17件)
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特開昭64-072079
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特開昭64-046930
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特開平4-254346
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特開昭58-220438
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集光反射器に薄膜層を変形させることによって薄膜層の厚さを測定する装置および方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-129704
出願人:ヒューズ・エアクラフト・カンパニー
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特開昭64-072079
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特開昭64-046930
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特開平4-254346
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特開昭58-220438
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特開平1-123157
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特開昭63-226936
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特公平3-040947
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特開平2-197142
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特開平3-225844
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特開平1-216550
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特開平2-071540
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ウェハ用真空チャック
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-030567
出願人:住友金属工業株式会社
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