パターン欠陥検査方法及びその装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-134839
公開番号（公開出願番号）：特開2003-329610
出願日： 2002年05月10日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】照明光の入射角および試料表面に形成された薄膜の膜厚変化により、イメージセンサの検出光量が場所により変化し検出画像に明るさむらの生じない照明光学系、検出光学系を備えたパターン欠陥検出装置を提供する。【解決手段】試料に照明光を照射するレーザ光源3と、該レーザの可干渉性を低減する可干渉低減光学系と、レーザ光を対物レンズ11の瞳位置に集光させる集光手段と、基板上に形成された回路パターンからの反射光を、基板の上方位置より検出する手段を有し、試料1に照射される照明光を、集光手段により前記対物レンズの瞳上に集光されるレーザ光の照射形態に合わせて、被検査対象基板上に照射する照明強度を部分的に調節するようにしたことで、試料表面の膜厚差による反射光強度の変動を小さくでき、検出画像の明るさむらが押さえられ微小欠陥の検出が可能になった。

請求項（抜粋）：

レーザ光源から発射したレーザを対物レンズを介して試料の表面に照射し、該レーザを照射された試料表面の欠陥を検出する方法であって、前記レーザを前記対物レンズの瞳面上で2次元的に走査し、該2次元的に走査したレーザを前記試料の表面に該表面の法線方向に対する入射角度を変化させながら照射し、前記レーザを入射角度を変化させながら照射した前記試料を撮像して得た画像を処理することにより前記試料表面の欠陥を検出することを特徴とするパターン欠陥検査方法。

IPC (3件)：

G01N 21/956 , G01B 11/30 , H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/956 A , G01B 11/30 A , H01L 21/66 C , H01L 21/66 J

Fターム (69件)：

2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065EE00 , 2F065FF61 , 2F065FF67 , 2F065GG04 , 2F065GG21 , 2F065HH04 , 2F065HH14 , 2F065JJ02 , 2F065JJ09 , 2F065JJ25 , 2F065LL00 , 2F065LL05 , 2F065LL08 , 2F065LL09 , 2F065LL12 , 2F065LL13 , 2F065LL25 , 2F065LL30 , 2F065LL33 , 2F065LL35 , 2F065LL36 , 2F065LL37 , 2F065LL62 , 2F065MM03 , 2F065MM26 , 2F065PP12 , 2F065QQ03 , 2F065QQ11 , 2F065QQ14 , 2F065QQ21 , 2F065QQ23 , 2F065QQ25 , 2F065QQ27 , 2F065QQ28 , 2F065QQ42 , 2F065RR05 , 2F065RR06 , 2G051AA51 , 2G051AA73 , 2G051AB01 , 2G051AB02 , 2G051BA05 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051BC05 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051DA07 , 2G051EA04 , 2G051EA08 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051EC02 , 2G051EC03 , 2G051FA10 , 4M106AA01 , 4M106BA05 , 4M106CA39 , 4M106CA41 , 4M106DB08 , 4M106DB13 , 4M106DJ04 , 4M106DJ11

引用特許：

審査官引用 (3件)

パターン欠陥検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-206866 出願人：株式会社日立製作所
フォトリソグラフィシミュレーションによるレティクル検査方法及びシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-309917 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
表面の金属コンタミネーションを検出する方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-533365 出願人：エーオーティーアイオペレーティングカンパニーインコーポレーティッド

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