フォトリソグラフィシミュレーションによるレティクル検査方法及びシステム

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-309917
公開番号（公開出願番号）：特開2001-159810
出願日： 2000年09月04日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：

【要約】【課題】選択されたステッパーの動作をシミュレートすることによって、レティクル210を光学検査するシステム及び方法を提供する。【解決手段】システムは、フライングスポット検査技術を使用し、走査装置及び検出ユニットを含む。走査装置は、関心ステッパーのそれと類似のレーザ源230を使用する。第1及び第2の導光アセンブリがそれぞれ入射光及び透過光の光路内に配置されており、ステッパーのそれと実質的に等しい光のコヒーレンスを供給する。

請求項（抜粋）：

選択された光周波数及び選択された開口数及び光のコヒーレンスで動作し、選択された型のレジストを使用する選択されたフォトリソグラフィ露光ツール内で使用されるフォトリソグラフィ基板を、光学的に自動検査するシステムであって、光ビームを供給する光源と、上記光ビームを受けて上記光ビームを走査させ、上記基板上にフライングスポットを形成させる走査装置と、限定された開口数を有する対物光学素子と、上記限定された開口数を調整し、上記露光ツールの上記選択された開口数をシミュレートするように動作する照明アセンブリと、上記基板を透過した光を受け、それを表すデータを生成する光センサと、上記光センサに結合され、上記データに応答してそれを解析し、上記レティクル上の欠陥を表すデータを生成するプロセッサユニットと、を備えていることを特徴とするシステム。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , G01N 21/956

FI (2件)：

G03F 1/08 S , G01N 21/956 A

引用特許：

審査官引用 (6件)

領域的イメージを測定する装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-088338 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
面状態検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-225988 出願人：キヤノン株式会社
特開平3-266844

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