特許
J-GLOBAL ID:200903027500061279
光学素子の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
秋元 輝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-377648
公開番号(公開出願番号):特開2004-205987
出願日: 2002年12月26日
公開日(公表日): 2004年07月22日
要約:
【課題】連続転写法により液晶高分子層/接着剤層/透光性基板フィルムからなる光学素子を製造する際および該光学素子に保護フィルムを積層した製品を製造する際に、不必要な剥離を生じたり、液晶高分子層に欠陥を生じたりしないで、十分な強度の接着を達成する方法を提供することを目的とする。【解決手段】接着剤として硬化型接着剤を用い、2段階に分けて紫外線又は電子線を照射する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
長尺配向基板上に液晶高分子層を形成し、該液晶高分子層と透光性基板とを硬化型接着剤を介して貼合して得られた配向基板/液晶高分子層/未硬化接着剤層/透光性基板からなる長尺積層体に、該接着剤が該液晶高分子層を浸食により損傷しない程度に硬化するために最低限必要な線量の紫外線または電子線を照射(第1段照射)し、30〜120秒の間を置いて、該接着剤の硬化を完了させるのに必要な線量の紫外線または電子線を照射(第2段照射)し、得られた配向基板/液晶高分子層/硬化接着剤層/透光性基板/配向基板フィルムからなる積層体から配向基板フィルムを剥離して透光性基板フィルム上に転写された液晶高分子層を有する光学素子を製造する方法。
IPC (3件):
G02B5/30
, G02F1/1335
, G02F1/13363
FI (3件):
G02B5/30
, G02F1/1335
, G02F1/13363
Fターム (17件):
2H049BA06
, 2H049BA42
, 2H049BB11
, 2H049BB16
, 2H049BB51
, 2H049BC05
, 2H049BC10
, 2H049BC14
, 2H049BC22
, 2H091FA08
, 2H091FA09
, 2H091FA11
, 2H091FA37
, 2H091FB04
, 2H091FC14
, 2H091FC23
, 2H091FD14
引用特許:
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