特許
J-GLOBAL ID：200903027514871532
光学的素子又は装置、これらの製造方法、及びその製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-220545
公開番号（公開出願番号）：特開平10-048402
出願日： 1996年08月02日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：
【要約】【課題】 接着性、光学特性及び経済性に優れた光学的素子又は装置、これらの製造方法、及びその製造装置を提供すること。【解決手段】 SiOX (但し、Xは2未満の正数)からなる第1の層1と、SiO2 からなる第2の層2と、SnO2 からなる第3の層5と、SiO2 からなる第4の層6とがこの順に基体3上に積層されている光学的素子又は装置。この光学的素子又は装置を製造するに際し、酸素を含む雰囲気中で物理的成膜法(スパッタリング法、真空蒸着法等)により第1の層1を成膜する、光学的素子又は装置の製造方法。この光学的素子又は装置を製造するのに用いられ、酸素を含む雰囲気中で物理的成膜法により前記第1の層1を成膜する成膜室61と、第2〜第4の層2、5、6をそれぞれ成膜する各成膜室62、63、64とを有する、光学的素子又は装置の製造装置。
請求項（抜粋）：
SiOX (但し、Xは2未満の正数)からなる第1層と、主としてSiO2 からなる第2層と、その他の反射防止用の層とがこの順に基体上に積層されている光学的素子又は装置。
IPC (5件)：
G02B 1/10
, B32B 7/02 103
, B32B 9/00
, C23C 14/08
, G02B 1/11
G02B 1/10 Z
, B32B 7/02 103
, B32B 9/00 A
, C23C 14/08 N
, G02B 1/10 A
