特許
J-GLOBAL ID：200903027517775356
有機EL素子の製造方法及び製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
目次 誠
, 宮▼崎▲ 主税
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-295727
公開番号（公開出願番号）：特開2004-134154
出願日： 2002年10月09日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：
【課題】ホスト材料とドーパント材料を所定の混合比となるように混合した発光層を形成する有機EL素子の製造方法において、発光層におけるドーパント濃度を所定の範囲内に制御し、有機EL素子を効率良く製造する。【解決手段】発光層6を形成する工程と、発光層6の蛍光スペクトルまたは光吸収スペクトルを光源3及び検出部4により測定することにより、発光層6におけるホスト材料とドーパント材料の混合比(ドーパント濃度)を検出し評価する工程とを備えることを特徴としている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ホスト材料とドーパント材料を所定の混合比となるように混合した発光層を形成する有機EL素子の製造方法であって、
発光層を形成する工程と、
前記発光層の蛍光スペクトルまたは光吸収スペクトルを測定することにより、前記発光層の前記混合比を検出し評価する工程とを備えることを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
3K007AB03
, 3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
