特許
J-GLOBAL ID：200903027661124840

光ディスク及びその製造方法

発明者：
西田 真達

西田 真達 について

, 
坂本 哲洋

坂本 哲洋 について

, 
柏木 俊行

柏木 俊行 について

, 
古木 基裕

古木 基裕 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-003485
公開番号（公開出願番号）：特開平11-203724
出願日： 1998年01月09日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：
【要約】【課題】 外周部における隆起部の発生が極力抑えられて表面性の良好な光透過層を有し、更なる大容量化が可能とされた光ディスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】 光ディスク1は、基板2上に記録部6、光透過層5が順次形成されており、光透過層5側から光が入射されて記録部6の信号記録領域6aに対して情報信号の記録及び/又は再生が行われる。基板2の最外周部から信号記録領域6aまでの径方向の距離Dは、光透過層5の外周部に生じた隆起部5aの径方向の幅Lよりも大きくなされている。そして、この隆起部5aの光透過層5の表面からの高さhが70μm以下である。
請求項（抜粋）：
基板上に記録層、光透過層が順次形成されており、当該光透過層側から光が入射されて上記記録層の信号記録領域に対して情報信号の記録及び/又は再生が行われる光ディスクにおいて、上記基板の最外周部から上記信号記録領域までの径方向の距離は、上記光透過層の外周部に生じた隆起部の径方向の幅よりも大きくなされており、当該隆起部の上記光透過層の表面からの高さが70μm以下であることを特徴とする光ディスク。
IPC (2件)：
G11B 7/24 535 ,  G11B 7/26 531
FI (2件)：
G11B 7/24 535 E ,  G11B 7/26 531
引用特許：
審査官引用 (12件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM