イオン注入装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-345235
公開番号（公開出願番号）：特開平7-176290
出願日： 1993年12月21日
公開日（公表日）： 1995年07月14日
要約：

【要約】【目的】ハイブリッドスキャン方式のイオン注入装置において、そのイオンビームの走査位置にかかわらず常に、プラズマをイオンビームの近傍に供給して、当該プラズマ中の電子によってイオンビーム照射に伴う基板の帯電を効果的に抑制することができるようにする。【構成】基板を保持するホルダの上流側に、イオンビーム2のX方向の走査領域3の外側を取り囲む筒状の非磁性体から成るリフレクタ電極64を設け、それにリフレクタ電源66から負電圧を印加するようにした。リフレクタ電極64の一端部64aの外側近傍に、プラズマ54を生成してそれをリフレクタ電極64内へ供給するプラズマ源として、第1プラズマ生成容器30および第2プラズマ生成容器48を設けた。第2プラズマ生成容器48の外側付近に、前記X方向に沿う磁束70を発生させるプラズマガイド用コイル68を設け、それにプラズマガイド用コイル電源72を接続し、それを制御回路74によって制御して、コイル電流Iをイオンビーム2のX方向の走査に同期して制御するようにした。

請求項（抜粋）：

イオンビームをX方向に電気的に走査すると共に、基板を保持するホルダをX方向と実質的に直交するY方向に機械的に走査して、ホルダ上の基板にイオン注入を行う構成のイオン注入装置において、前記ホルダの上流側近傍に設けられていて、イオンビームの前記X方向の走査領域の外側を取り囲む筒状の非磁性体から成るリフレクタ電極と、このリフレクタ電極の前記X方向の一端部の外側近傍に設けられていて、プラズマを生成してそれを当該一端部からリフレクタ電極の内側へ供給するプラズマ源と、このプラズマ源の出口付近から前記リフレクタ電極の前記一端部付近にかけての部分を取り囲むように巻かれていて、同プラズマ源の出口付近からイオンビームの走査領域内にかけて前記X方向に沿う磁束を発生させるプラズマガイド用コイルと、前記リフレクタ電極の前記一端部に対向する他端部付近に前記プラズマガイド用コイルに対向するように設けられた磁性体部材と、前記リフレクタ電極に負電圧を印加するリフレクタ電源と、前記プラズマガイド用コイルにコイル電流を供給するプラズマガイド用コイル電源と、前記イオンビームの前記X方向の走査に同期して、イオンビームがその走査領域の前記プラズマ源側の端部にあるときは前記コイル電流を弱く、その反対側の端部にあるときは同コイル電流を強くするように前記プラズマガイド用コイル電源を制御する制御回路とを備えることを特徴とするイオン注入装置。

IPC (3件)：

H01J 37/317 , C23C 14/48 , H01L 21/265

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平3-093141
特開昭63-033566
イオン処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-249805 出願人：日新電機株式会社

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