特許
J-GLOBAL ID:200903027677585782

真空気密容器の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 脇 篤夫 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-192714
公開番号(公開出願番号):特開平10-021829
出願日: 1996年07月04日
公開日(公表日): 1998年01月23日
要約:
【要約】【課題】大量生産可能とする。【解決手段】電界放出カソードの形成された第1多面取り基板2’に排気孔を設け、この排気孔を覆うようにゲッターボックス4を面付けする。この第1多面取り基板2’に、アノードの形成された第2多面取り基板3’とを面付けした後、封着する。そして、実線および破線で示すカッティングラインでカットすることにより、同時に4つの真空気密容器を得る。そして、各真空気密容器内を排気管5を利用して排気・封止することにより、表示部を内部に収納する真空気密容器が完成する。
請求項(抜粋):
複数の第1基板を多面取りすることのできる第1多面取り基板の所定の位置に複数の排気孔を形成する工程と、排気孔の形成された前記第1多面取り基板に、複数の第2基板を多面取りすることのできる第2多面取り基板を面付けする工程と、面付けされた前記第1多面取り基板と、前記第2多面取り基板とを封着する工程と、封着した前記第1多面取り基板と、前記第2多面取り基板とを、第1基板および第2基板にそれぞれ形成された引出電極が他方の基板により覆われないようにそれぞれ所定の位置でカットして、封着された第1基板と第2基板とからなる真空気密容器を複数同時に得る工程と、前記排気孔を利用して切り離された複数の真空気密容器を個別に排気・封止する工程と、からなることを特徴とする真空気密容器の製造方法。
IPC (5件):
H01J 9/24 ,  H01J 9/385 ,  H01J 9/39 ,  H01J 29/94 ,  H01J 31/12
FI (5件):
H01J 9/24 A ,  H01J 9/385 A ,  H01J 9/39 A ,  H01J 29/94 ,  H01J 31/12 C
引用特許:
審査官引用 (4件)
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