現像装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小山有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-321870
公開番号（公開出願番号）：特開2000-147785
出願日： 1998年11月12日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：

【要約】【課題】測定波長を変更することなく、現像液に変色や濁りが生じた場合でも現像液中のホトレジスト濃度を正確に測定する。【解決手段】現像液貯留タンク5内の現像液は、屈折計11及び導電率計12にて屈折率と導電率が測定され、測定された屈折率は屈折率制御装置13に送られ、導電率は導電率制御装置14に送られ、屈折率制御装置13では、測定した屈折率に基づき、予め作成した検量線から換算されるホトレジスト濃度が自動的に計算され、また導電率制御装置14では、測定した導電率から現像液のアルカリ濃度が計算される。そして、計算されたホトレジスト濃度が規定値より高いと、屈折率制御装置13からドレン用配管8のバルブ9に開の信号が送られ、現像液貯留タンク5内から現像液が廃棄される。

請求項（抜粋）：

選択的な露光処理を施したホトレジスト(感光性樹脂)を現像処理する装置において、この現像装置は現像液中に溶解したホトレジストの濃度を測定するホトレジスト濃度測定手段と、現像液中のホトレジスト濃度を設定した範囲内に収めるホトレジスト濃度調整手段と、現像液のアルカリ濃度を測定するアルカリ濃度測定手段と、現像液のアルカリ濃度を設定した範囲内に収めるアルカリ濃度調整手段を備え、前記ホトレジスト濃度測定手段は現像液の屈折率に基づいてホトレジスト濃度を算出するものであることを特徴とする現像装置。

IPC (2件)：

G03F 7/30 501 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/30 501 , H01L 21/30 569 Z

Fターム (8件)：

2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096GA08 , 2H096GA21 , 2H096LA19 , 5F046LA03 , 5F046LA04 , 5F046LA19

引用特許：

審査官引用 (12件)

基板現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-255426 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
現像液の調整方法及び調整装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-082316 出願人：東京応化工業株式会社, ティーオーケーエンジニアリング株式会社
特開昭62-186266

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