特許
J-GLOBAL ID：200903027870796570

基板洗浄装置

発明者：
岡本 伊雄

岡本 伊雄 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-182794
公開番号（公開出願番号）：特開2001-009387
出願日： 1999年06月29日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：
【要約】【課題】基板をスクラブ洗浄する基板洗浄装置において、基板の周縁部の端面を良好に洗浄できる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】端面支持ハンド100,101に保持されて回転されるウエハWは、図示しない回転駆動源によって回転するスクラブユニット106,110のスクラブ部材105,109によってスクラブ洗浄されている。そして、このスクラブ部材105,109のスクラブ面S1,S2は硬度で52以上80以下の硬さを有している。
請求項（抜粋）：
基板が所定の回転軸を中心として回転するように基板を保持する基板保持手段と、この基板保持手段に保持された基板の周縁部の少なくとも一部に接触するスクラブ面を有し、上記基板の回転軸とほぼ平行な回転軸を中心に回転されるとともに、硬度が52以上80以下であるスポンジ状のスクラブ部材と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (4件)：
B08B 1/04 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 644
FI (4件)：
B08B 1/04 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 644 C
Fターム (12件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JC19 ,  3B116AA03 ,  3B116AB01 ,  3B116AB34 ,  3B116AB42 ,  3B116BA08 ,  3B116BA13 ,  3B116BB22
引用特許：
審査官引用 (3件)

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