基板洗浄装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-117809
公開番号（公開出願番号）：特開平10-308370
出願日： 1997年05月08日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：

【要約】【課題】簡単な構成で、処理効率がよく、洗浄処理時間の短縮化を図る。【解決手段】 1本の支持アーム7に2個の洗浄ブラシ8を設ける。基板保持機構4に保持された基板Wを軸芯J周りで回転させ、各洗浄ブラシ8を基板Wの洗浄面に沿って半径方向に同時に変位させることで、基板Wの洗浄面全面を2個の洗浄ブラシ8により分担して洗浄することができ、洗浄効率を向上させて洗浄処理時間を短縮できる。異なる種類の洗浄ブラシ8を支持アーム7に設ければ、洗浄領域に応じて最適な硬さの洗浄ブラシを使い分けて行う洗浄を同時に行うこともできる。異なる種類の洗浄手段を支持アーム7に設ければ、各種の洗浄手段による基板Wの洗浄面全面の同時洗浄も可能となる。

請求項（抜粋）：

基板を回転させて洗浄手段で基板の洗浄面を洗浄する基板洗浄装置において、1本の支持アームに複数の洗浄手段を設け、基板の洗浄面をこれら複数の洗浄手段で同時に洗浄するように構成したことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 , B08B 1/04 , B08B 3/02

FI (3件)：

H01L 21/304 341 B , B08B 1/04 , B08B 3/02 B

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-231311 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-010558 出願人：東京応化工業株式会社
ウェーハ洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-041411 出願人：株式会社ディスコ

全件表示

前のページに戻る