特許
J-GLOBAL ID：200903027872627040
テクスチャ処理装置、描画処理装置、およびテクスチャ処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-063113
公開番号（公開出願番号）：特開2006-244426
出願日： 2005年03月07日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
【課題】 テクスチャマッピングの手法により、いろいろなテクスチャが使われるため、資源管理が容易ではない。【解決手段】 シェーダユニット30の描画演算処理部34は、テクスチャ構造体52を参照するための3次元テクセル座標値(u,v,w)を指定したテクスチャ命令をテクスチャユニット70に対して発行する。テクスチャユニット70のテクスチャ読み出し部76は、シェーダユニット30から3次元テクセル座標値(u,v,w)を受け取り、テクスチャ構造体52の内、第3テクセル座標値wに対応するテクスチャから2次元テクセル座標(u,v)に対応するテクセル値を読み出す。フィルタ74は、レジスタファイル72に設定されたフィルタリングモードにしたがって、テクスチャ読み出し部76により読み出されたテクセル値の補間を行い、補間値をシェーダユニット30の描画演算処理部34に与える。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
テクスチャに関する値を2次元パラメータ座標に対応づけてテクセル値として格納した2次元テクスチャが複数設けられ、前記複数の2次元テクスチャの少なくとも1つを指定するための第3パラメータが前記2次元パラメータ座標における第1および第2パラメータとは別に設けられたテクスチャ構造体を格納するテクスチャ記憶部と、
描画対象物の表面に適用されるテクスチャについて前記第3パラメータの指定と前記表面上の2次元パラメータ座標値の指定とを受け、前記テクスチャ構造体の内、指定された前記第3パラメータに対応する前記2次元テクスチャから、指定された前記2次元パラメータ座標値に対応するテクセル値を読み出すテクスチャ読み出し部と、
読み出された前記テクセル値を補間して、前記描画対象物の表面に適用されるテクスチャに関する値を算出するフィルタとを含み、
前記第3パラメータとして、前記テクスチャ構造体に含まれる前記複数の2次元テクスチャ間の関連性に応じた値が指定されることにより、異なる種類の前記テクスチャ構造体が統一的に参照されることを特徴とするテクスチャ処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5B080AA13
, 5B080AA17
, 5B080GA22
