特許
J-GLOBAL ID:200903027973147669
リソグラフィ装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 岩本 行夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-311712
公開番号(公開出願番号):特開2005-167211
出願日: 2004年10月27日
公開日(公表日): 2005年06月23日
要約:
【課題】リソグラフィ投影装置において、機械的振動による不必要な外乱をもたらすことなく、液体の圧力変動および/または温度変化を最小限に抑えた液体供給システムを提供すること。【解決手段】投影システムPSの最終要素と基板との間のリザーバ10に、入口21から液体が供給される。オーバーフローが、所与の高さよりも上で液体を除去する。オーバーフローは、入口よりも上に構成され、それによって液体は常に新規補給され、液体の圧力は実質的に一定に保たれる。【選択図】図4
請求項(抜粋):
放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、
所望のパターンに従って前記投影ビームにパターンを形成するように働くパターン形成手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記パターン形成されたビームを前記基板のターゲット部分に投影するための投影システムと、
液体リザーバを形成するために、前記投影システムの最終要素と前記基板との間の空間を少なくとも部分的に液体で充填するための液体供給システムと
を有するリソグラフィ投影装置であって、
前記液体リザーバからのオーバーフローをさらに有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
Fターム (7件):
5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CB01
, 5F046CB20
, 5F046CB26
, 5F046CB27
, 5F046DA12
引用特許: